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EUV光刻太貴，替代方案被考慮
目前業(yè)界認(rèn)為，EUV加上先進(jìn)的193i技術(shù)，如SADP和SAQP，將能夠繼續(xù)擴(kuò)展到上述5納米技術(shù)以下。挑戰(zhàn)EUV光刻？NIL靠譜嗎！
芯片制造離不開光刻機(jī)，且制程越先進(jìn)，其重要性越凸出，占芯片制造總成本比例也越高。
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